目前，在世界光刻机制造领域只有三家领先的公司，分别是荷兰的ASML和日本的佳能和尼康。截至2011年，ASML在全球光刻机市场中已占据70多个市场份额。在7nm和5nm工艺领域，ASML是世界上唯一可以生产相应光刻机的公司。换句话说，ASML在最先进的光刻机生产中已完全垄断。台积电和三星都投资了5nm工艺的批量生产。前者的OEM产品包括Apple A14，M1，华为麒麟9000等，后者包括Exynos1080和Snapdragon888。实际上，从7nm开始，台积电和三星开始引入EUV光刻，但是层数在这个过程中相对较小。根据ASML（ASML），在迭代到5nm之后，EUV层的数量达到10到14层，包括但不限于接触，过孔和关键金属层之类的过程。将来，3nm和2nm将会更多地依赖EUV。根据最新数据，ASML于12月中旬完成了其第100台EUV光刻机的装运。更为积极的消息是，业内人士预测，到2021年，ASML的EUV光刻机的生产能力将达到45-50台。毕竟，2019年仅售出了26单位的ASML，而去年第三季度之后的全年（全年估计为35单位）只交付了23单位，这简直可惜。此外，ASML计划在明年年中交付最新一代的EUV光刻机TWINSCANNXE：3600D。生产效率提高了18％，机器匹配和套准精度提高到1.1nm。单个单元的价格可能会高于旧模型的1.2亿欧元（约合9.5亿元人民币）。很多人更关心我国光刻机的水平吗？据悉，上海微电子是中国技术最先进的光刻机制造商，到2021年将只能交付28nm光刻机。目前，世界领先的芯片是5nm工艺，台积电正在计划研发3nm技术。从28nm到5nm，该工艺分开了14nm和7nm。如果国产光刻机每两年更新一次，就意味着我们要花7年才能达到目前的ASML水平。当然，如果我国对研发人员和研发资金进行了投资，也许我们可以尝试匹配世界上最先进的水平，甚至可以在大约10年内超过它。电子发烧友对本文进行了全面报道，其内容来自ASML和CnBeta。请指出以上转载来源。